CVD管式炉（气相沉积炉）

产品介绍

CVD管式炉由开启式单(双)温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现高真空状态下、混合气体化学气相沉积和扩散试验。

CVD管式炉主要用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。

CVD管式炉是在高温条件下通过一定的化学反应将物质转化成固态薄膜的一种重要设备。

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

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CVD设备厂区实拍

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pecvd设备实拍

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CVD设备

CVD管式炉在高温条件下通过一定的化学反应将物质转化成固态薄膜。具体过程如下：在高温下，气态物质经过化学反应生成固态物质，并在基材表面沉积。这个过程可以通过调节温度、气氛和时间等参数来控制薄膜的生长和性质。

CVD管式炉可用于合成各种高质量、高性能的材料，如半导体材料、超导材料、陶瓷材料等。

CVD管式炉可用于制造太阳能电池、燃料电池等新能源器件。

CVD管式炉可用于制造各种电子器件，如半导体器件、集成电路等。

CVD管式炉可用于制造各种高性能的合金材料和复合材料，用于制造国防装备和武器。

CVD管式炉是一种重要的实验设备，在材料科学、能源、电子、国防等领域有着广泛的应用。它具有高温、高压环境、高质量薄膜、多样的化学反应、自动化控制、高安全性等特点。

针对材料的高温烧结工艺保证耐热及绝缘性可靠性设计，新型电极结构避免了高温炉电极漏水现象，并且加热系统中的易损部件更便于维修和更换。