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在高纯度石英玻璃制备中,羟基(OH⁻)是影响其光学、热学性能的关键杂质。采用氧化铝炉膛、石英玻璃炉管,工作温度达1200℃的立式真空脱羟炉,结合PLC自动化控制,为半导体、光纤及光学领域提供了一种高效、经济且洁净的脱羟基解决方案。
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氢气管式炉是一种将样品放置在密闭的石英管或刚玉管中,通入氢气(或含氢气的混合气体),在精确控制的温度曲线下进行加热处理的炉子。
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一个经常被问到的问题是我们实验室现有的管式炉,能不能直接用来做CVD实验呢?答案是可以,但有严格的限制条件。
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