氧化亚硅升华炉

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使用温度：小于等于1400℃
真空度：高真空
可用气氛：惰性气氛（N2、CO2、Ar2等）,危险气体（H2）
加工工艺：氧化亚硅升华
适用单位：适用高效、实验室、科研和生产企业

设备类型

氧化亚硅升华炉是一种真空设备，通常用于制备高纯氧化亚硅材料，采用氧化亚硅为原料，通过升华法进行生产。

氧化亚硅升华炉(实验型)

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