产品介绍
PECVD管式炉又叫做等离子增强化学气相沉积(PECVD)的设备，是制造半导体器件和电池（电池片、正负极电池材料等）、晶体生长（石墨烯生长、砖石生长等材料）的重要工具之一。
PECVD系统是借助微波或射频使含有薄膜组成原子的气体电离，合成高质量的薄膜材料，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
PECVD管式炉
PECVD管式炉的组成结构
PECVD管式炉结构图
PECVD设备实拍
PECVD管式炉的工作原理
PECVD是通过外部增加的电场作用于系统内参与反应的气体，使气体电离产生辉光放电效应，从而可以在基体上高速沉积薄膜，是CVD中最大的细分市场。
在高温和低压的条件下，利用微波或射频等离子体增强化学反应，气态物质经过化学反应生成固态物质，并在基材表面沉积形成薄膜。这个过程可以通过调节温度、压力、微波或射频功率等参数来控制薄膜的生长和性质。
PECVD管式炉的应用领域
半导体制造：
PECVD管式炉可用于制造半导体器件和集成电路，如存储器、微处理器、光电传感器等。
光伏电池制造：
PECVD管式炉可用于制造高效光伏电池，如硅基光伏电池、化合物光伏电池等。
光学器件制造：
PECVD管式炉可用于制造光学器件，如光学滤波器、光学薄膜等。
电子器件制造：
PECVD管式炉可用于制造各种电子器件，如薄膜电阻、电容、电感等。
纳米材料制备：
PECVD管式炉可用于制备各种纳米材料，如纳米晶体、纳米纤维等。
PECVD管式炉是一种重要的实验设备，在半导体制造、光伏电池制造、光学器件制造、电子器件制造等领域有着广泛的应用。它具有等离子增强化学反应、高温、低压环境、高质量薄膜、多样的化学反应、
设备应用
针对材料的高温烧结工艺保证耐热及绝缘性可靠性设计，新型电极结构避免了高温炉电极漏水现象，并且加热系统中的易损部件更便于维修和更换。
耐热性高
安全性好
维修高效
PECVD管式炉主要用于
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硬质合金
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陶瓷（氧化锆陶瓷、氧化铝陶瓷等）
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磁性材料
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粉末材料
