河南某材料研究院定制一台PECVD气相沉积设备

PECVD设备成品视频展示

客户背景

河南某材料研究院是一家专注于新材料研发的科研机构，主要研究半导体薄膜、纳米材料及先进涂层技术。该研究院需要一台PECVD（等离子增强化学气相沉积）设备，用于高质量薄膜制备，以满足其在光电子材料、半导体器件及功能涂层方面的研究需求。

需求分析

客户希望定制的PECVD设备具备以下核心要求：

沉积材料：能够沉积Si、SiNx、SiO₂及DLC等多种薄膜材料。

基片尺寸：支持直径4英寸及6英寸的基片，兼容实验室小批量制备。

气体系统：支持SiH₄、NH₃、O₂、CH₄等多种气体，实现不同材料的沉积需求。

温度控制：加热温度可达800℃，保证薄膜质量。

等离子体源：采用13.56MHz射频电源，确保等离子体均匀稳定。

真空系统：配置高性能机械泵+分子泵，极限真空度可达10⁻⁶Pa。

自动化控制：采用PLC+触摸屏操作，提供全自动沉积流程，提升实验效率。

设备解决方案

针对客户需求，我们设计并制造了一台高精度PECVD气相沉积设备，具体配置如下：

沉积腔体：采用高真空不锈钢反应腔，内壁镜面抛光，减少颗粒污染。

射频电源：配置13.56MHz射频电源，并搭配匹配网络，提高等离子体稳定性。

气体输送系统：四路MFC(质量流量控制器)精确控制气体流量，确保沉积工艺稳定。

温控系统：采用精密PID控温技术，保证基片均匀受热。

真空系统：采用进口分子泵与机械泵组合，实现高真空环境，减少杂质影响。

自动化控制：PLC+触摸屏人机界面，实现一键启动、实时数据监测、历史记录查询等功能。

设备交付与客户反馈

设备完成制造后，我们进行了严格的工厂测试(FAT)，并在客户实验室进行了现场安装调试(SAT)。经过一系列工艺测试，设备的沉积均匀性、膜层厚度精度、重复性等均达到了客户预期。

客户反馈：

✅ 膜层均匀性良好，满足科研需求

✅ 操作便捷，自动化程度高，极大提升了实验效率

✅ 真空系统稳定，等离子体控制精准，确保实验重复性

结语

本次PECVD设备定制项目圆满完成，设备已稳定运行，并为客户的科研工作提供了强有力的支持。作为实验室真空设备专业供应商，我们将持续优化产品，助力更多科研机构实现高端薄膜材料制备需求。

如您有PECVD设备需求，欢迎联系我们!