产品介绍
真空脱羟炉 是一种在高真空和高温环境下，用于去除材料（主要是合成石英玻璃）内部结构中的羟基（-OH）官能团的专用工业炉。
真空脱羟炉 非常重要的应用领域是高端合成石英玻璃的后期处理。
这种处理后的石英玻璃被称为 “低羟基石英玻璃” 或 “干法石英玻璃” ，主要应用于：
1、半导体光刻技术
用于制造光刻机的光学系统，如透镜、反射镜和光掩膜版基板。羟基会强烈吸收深紫外(DUV，如193nm)和极紫外(EUV)波长的光，导致能量损失、透镜发热变形，严重影响光刻精度。脱羟处理是制造高性能光刻镜头材料的必备工序。
2、高端光学元件
用于激光器(特别是紫外激光器)、太空望远镜、高精度测量仪器等。羟基的存在会导致光学元件在特定波段(尤其是红外和紫外)产生不必要的吸收峰，降低透光率和激光损伤阈值。
3、光纤通信
在制造某些特种光纤(如传能光纤)的预制棒时，也需要控制石英玻璃中的羟基含量，以减少信号传输损耗。
设备应用
针对材料的高温烧结工艺保证耐热及绝缘性可靠性设计，新型电极结构避免了高温炉电极漏水现象，并且加热系统中的易损部件更便于维修和更换。
耐热性高
安全性好
维修高效
真空脱羟炉主要用于
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硬质合金
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陶瓷（氧化锆陶瓷、氧化铝陶瓷等）
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磁性材料
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粉末材料
技术参数
型号 | BR-VFQ |
炉膛尺寸（宽x高 x深） | 可定制 |
最高工作温度 | 1200 oC |
长期工作温度 | ≤1100℃ |
加热温区 | 3温区，每个温区独立控温，同时温度互锁，确保温度同步。 |
炉壳结构 | 双层水冷炉壳，侧开门； |
控温精度 | ± 1 oC |
加热速率 | 1000oC以下，推荐升温速率<20 oC /分钟 1000oC--1200oC, 推荐升温速率<10oC/分钟 |
热电偶 | S型 |
加热元件和炉膛 |
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温控系统 |
2.人机界面： ● 15寸液晶触摸屏，实时显示升温曲线。 ● 可针对不同的产品，编制不同的工作曲线，最多可编制30条。 ● 升温曲线记录功能。可储存过去30天的所有工作曲线。 ● 超温报警+断偶报 |
真空系统 | █ 极限真空度７ｘ１０－3Pa;（空炉、冷态、净化后） █ 工作真空度７ｘ１０－2Pa;（空炉、冷态、净化后） █ 真空机组：直联式机械泵； 罗茨真空泵+扩散泵 |
气路系统及气压安全 | █ 进气系统，可充入不同的惰性气体。据工艺需要，调整氢气进气压力及流量；单向阀防止气体回流，提供安全保护。 |
